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紫外清洗機不需要任何溶劑，也不會損壞清潔表面。去除大多數無機基板中的有機污染物。該清洗機提供了一種高效、精確的清洗方法，也是一種非常重要的表面改性技術。應用于表面處理、有機清洗、提高表面親水性、降低表面接觸角、增加表面附著力、增強表面功函數等。紫外清洗機的工作原理：通過產生185nm和254nm高強度UV光分解有機分子(污染物)。185nm的光可以將氧分子O2轉變成活性的O3臭氧分子。254nm的光同時激發表面的有機分子，使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在時間短...

實驗室等離子清洗機是一項新的高科技技術，它使用等離子來達到傳統清洗方法無法達到的效果。等離子清洗機應用廣泛。接下來就給大家介紹一下實驗室等離子清洗機的優勢有哪些？實驗室等離子清洗機的設備優勢：1、等離子體清洗后，清洗對象干燥，無需進一步干燥即可進入下一工序。可以提高整個工藝管線的處理效率；2、等離子清洗使用戶避免了有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗時清洗物易清洗的問題；3、避免使用有害的ODS溶劑，如三氯乙烷，以免清洗后產生有害污染物。因此，這種清潔方法是一種環保的綠...

紫外清洗機通常用于掃描探針顯微鏡的樣品應用。可用于原子力顯微鏡探頭、掃描探針顯微鏡標準探頭、表面常規油層及殘留無機材料的清洗。它還可用于改變物體表面的疏水性，這有利于零件和表面的化學改性。紫外清洗機的保養要點：1、使用紫外線滅菌器的最佳條件水溫：5℃-50℃；相對溫度：不超過93%；電壓：220±10v50hz；進入處理設備的飲用水水質具有95%-100%的透射率。如果待處理水質低于國家標準，如色度高于15度，濁度高于5度，鐵含量高于0.3mg/L，應先采用其他...

勻膠機旋涂儀廣泛應用于MEMS微加工、生物、材料等領域。它可用于制備厚度小于10nm的薄膜。它也常用于厚度約為1-100微米的光刻膠沉積層的光刻工藝中。許多平面基板材料可用于涂層，如半導體硅片、載玻片、晶片、基板、ITO導電玻璃等。勻膠機旋涂儀的工作原理：通過在晶片支架上產生負壓，待旋涂的基材吸附在晶片架上，膠水滴在基材表面。通過精確調節電機的轉速來改變離心力。同時，滴膠裝置控制膠水的流速，以達到制備薄膜所需的厚度。此外，涂膜厚度還取決于旋涂時間、膠液粘度、涂膜溫度和濕度等環...

控溫勻膠機的操作使用：1、選擇適合的片托，略小于樣片尺寸，將缺口對準螺釘卡口，安裝牢固。2、開啟電源3、調節設置合適的勻膠時間轉速步驟。支持100組每組100步的程序設置和存儲調用。4、放片，并保證樣片處于載物盤正中心。5、開啟真空吸附，按下“真空”鍵開始吸附樣片。注意：真空狀態顯示，支持真空報警，真空錯誤電機停止工作。(PE型配備實時真空數值顯示)6、程序設置完畢按“執行”鍵，電機旋轉，速度加速度連續可調轉速實時顯示。轉速時間曲線分析。7、滴膠，動作要迅速，要在低轉速時間內...

實驗室涂膜機是指在基材上涂覆一層或多層涂層以形成固體連續薄膜的機器。使用精確控制的棒或涂膜器以選定的速度來回移動。由于試紙平滑地吸附在吸盤上，并且在涂覆期間添加到施工工具的剪切速率和重量保持不變，因此涂層膜的再現性大大提高。實驗室涂膜機解決的四個問題：1、超薄涂層涂布機的薄膜厚度不是由涂布機決定的，而是由涂布機上匹配的線材或制備裝置決定的。因此，線材和制備劑的精度對涂層的精度有著決定性的影響。在制備超薄薄膜時，一方面選擇線材的精度很高，另一方面，薄膜機的恒速恒壓打樣也會減少薄...

小型涂膜機是指將涂層涂覆到由一個或多個涂層在基材上形成的固體連續膜上的機器。小型涂膜機的涂膜由多個涂層組成，涂層量根據涂層對象的要求確定。小型涂膜機的產品優點：1、CNC面板，*自主設置，可存儲三種模式。每種模式下的涂布距離和涂布速度可以任意調整。當不同的人在不同的時間操作機器時，所有涂層參數確保一致性。2、與傳統的皮帶傳動相比，口鋼棒傳動具有更穩定的運行、更長的使用壽命和更好的控制。3、數顯測微計的精度為1um，傳統的肉眼觀察的刻度測微計。它更人性化，有兩個單位，毫米和英寸...